微电子材料与器件制备技术

图书信息

作者：王秀峰、伍媛婷 编，化学工业 | 分类：科学技术,工业技术,无线电电子学、电信技术

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内容简介

内容简介 　　《微电子材料与器件制备技术》以微电子材料为对象，以材料和器件的制备工艺为主线，系统、全面地介绍了微电子材料与器件制备技术的前沿问题与进展。全书主要包括微电子材料的分类及性能、微电子器件中材料的选择、不同微电子材料与器件的加工工艺以及微电子材料的性能测试技术等。《微电子材料与器件制备技术》适合微电子材料与器件制备领域的工程技术人员、研发人员阅读使用，也可作为高等院校材料科学与工程、电子科学与技术、化学工程、机械设计与制造等专业师生的教学用书。

目录

图书目录
1 概述1.1 微电子技术1.2 微电子材料及其应用1.3 工艺1.4 器件1.5 未来趋势2 单晶2.1 概述2.2 硅2.3 硅的晶体结构与性能2.4 硅晶体中的缺陷和非理想状态2.5 硅的晶体生长及设备2.5.1 硅的纯化2.5.2 直拉法生长单晶硅2.5.3 区熔法生长单晶硅2.5.4 外延法2.5.5 生长设备2.6 其他单晶2.7 晶圆制备3 薄膜3.1 概述3.2 衬底3.3 多晶硅3.4 非晶硅3.5 硅化物3.6 二氧化硅3.7 金属薄膜3.8 薄膜新材料3.8.1 金刚石3.8.2 其他3.9 薄膜制备方法3.9.1 物理气相沉积3.9.2 蒸发和分子束外延生长3.9.3 溅射3.9.4 化学气相沉积3.9.5 其他沉积方法3.10 外延3.10.1 外延的概念3.10.2 外延技术的发展3.10.3 异质外延3.10.4 硅的CVD同质外延3.10.5 外延的模拟4 光刻、铸造和压印4.1 概述4.2 光刻掩模版4.2.1 传统掩模版4.2.2 相移掩模版4.2.3 X射线光刻掩模版4.2.4 电子束光刻镂空式模板与散射式掩模版4.2.5 离子束光刻掩模版与模板4.2.6 掩模版的制造、缺陷和修复4.2.7 复合掩模版4.3 主要光刻技术及设备4.3.1 沉浸光刻4.3.2 无掩模光刻技术4.3.3 紫外线光刻/极紫外光刻4.3.4 电子束光刻4.3.5 离子束光刻4.3.6 X射线光刻4.3.7 设备4.4 基本图形形状4.5 光刻胶4.5.1 光刻胶的反应机理及应用4.5.2 应用性能指标4.5.3 光刻胶薄膜光学4.5.4 光刻胶去胶或灰化4.6 表面活性剂4.7 光学光刻延伸技术4.7.1 上表面成像及多层胶技术4.7.2 光刻图形的胶修整及化学收缩4.8 光学光刻模拟4.9 压印4.9.1　纳米压印光刻5　刻蚀与化学机械抛光6　清洗与表面预处理7　表面层改性8　晶片键合技术9　工艺集成10　CMOS晶体管11　MEMS工艺集成12　微电子材料与器件性能测量分析参考文献